反応性イオンエッチングにより,高い再現性を有する基板の微細加工が可能です. 100ナノメートルオーダー(髪の毛の太さの1000分の1)の溝を基板に掘ることが出来ます.
基板上に金属や絶縁体の薄膜を作製することが可能です. 当研究室では,フォトリソグラフィと組み合わせることで,基板上にAu薄膜の微細パターニングなどを行っています.
CADを使ってデザインした実験デバイスや冶具を,3次元光造形することが可能です. 通常の加工技術では作製困難な形状も造形できます. 数十分〜数時間で実験装置が出来上がるので,早いサイクルで実験を進めることが出来ます.
基板上に金属薄膜を作製することが可能です. 当研究室では,フォトリソグラフィと組み合わせることで,基板上に金属薄膜のパターニングなどを行っています.
微細形状を有するモールドを熱可塑性樹脂に押し付けることで,モールド形状を樹脂に転写することが可能です.
集光したレーザーにより,流体中のマイクロ・ナノ粒子を操作することが可能です. 光圧による物質操作とそれにともなうマイクロ・ナノスケールの熱流動現象を利用することで,粒子捕捉やパターン形成に関する研究を行っています.
流路内の断面を観察するための共焦点顕微鏡システム一式です. 観察ステージの自動制御と断面の連続撮影により,3次元像の構築が可能です.
カンチレバー先端と観察対象間の原子間力の変化を利用し,観察対象の形状をナノメートルオーダーで同定することが可能です. 当研究室では,基板上におけるDNA分子の自己集合化パターンの評価などに用いられています.
カンチレバー先端と観察対象間の原子間力の変化を利用し,観察対象の形状をナノメートルオーダーで同定することが可能です. 当研究室では,基板上におけるDNA分子の自己集合化パターンの評価などに用いられています.真空中にての観察も可能です.